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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波
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用途：主要应用于半导体镀膜和光学镀膜。纯度：99.95%～99.99%。规格：方靶材，厚度x宽度x长度=5～25x≤800x≤2000（mm）
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用途：主要应用于半导体镀膜和光学镀膜。纯度：99.95%～99.99%。规格：方靶材，厚度x宽度x长度=5～25x≤800x≤2000（mm）
